Cargille宝石折光仪液体的折射率nD=1.810，在所有不含砷的液体中highest。它与宝石折光仪一起广泛用作鉴定宝石的接触介质。这...

介绍：高效的SCSe126型是用于光掩模，晶圆和基材的亚微米级清洁的理想解决方案。该系统非常可靠且具有成本效益，它经过验证，...

简介：这款蚀刻和清洁系统专为满足当今晶圆、光掩模和基板的前沿应用的特殊工艺需求而设计。这款高效的蚀刻和清洁系统CESx124...

AFIXX20m手动系统台式系统设计用于手动将单个基板临时粘合到刚性载体或其他载体上。适用于非常薄的易碎基材和柔性塑料材料。...

BASIXXST20+实验室台式匀胶机是一款紧凑的旋涂，显影，清洁和干燥半自动系统，旨在为科学和研究领域的用户提供高效，安全和清...

HT20e加热台设计用于基材的单面烘烤，用于预烘烤和后烘烤或脱水烘烤过程。尤其适用于粘合剂底漆（HMDS;六甲基二硅氮烷），可...

MR200的设置可为结构化硅晶片切割提供高精度划线。MR200是必不可少的工具，特别是对于半导体技术中的REM制备。MR200还适用于...

介绍：M-HP200热板用于烘烤和回火加热晶圆片或基板。该热板适用于直径*大为8英寸的晶圆片或*大6英寸x6英寸的衬底。内置模块可...

介绍：•旋转冲洗干燥机用于冲洗和干燥直径*大为12英寸的圆形或*大7英寸方形的基材；•可提供满足您特定要求的标准...

介绍：M-Spin200匀胶旋涂仪是用于均匀涂覆和干燥晶圆片或衬底。该匀胶旋涂仪适用于直径*大为8英寸的晶圆片，或*大为6英寸x6英...

6SpinCoater可旋涂处理小碎片至6英寸圆晶圆片，使用无刷直流双向旋转马达控制，转速稳定，控制器可拆卸配合手套箱使用，4.3寸...

EZImprinting推出了一款台式独立纳米压印机：PL系列400/600.EZImprinting是一种超高产率（>99％）纳米压印系统，带有低于10纳...

CNIv2.1PV是用于纳米压印和热压印的小型桌面工具，可完成微米和纳米结构从母版复制到基板。CNIv2.1PV纳米压印机可以执行热压...

CNIv2.1是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻...

原子层沉积（Atomiclayerdeposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学...

M6SpinCoater可旋涂处理小碎片至6英寸圆晶圆片，使用无刷直流双向旋转马达控制，转速稳定，控制器可拆卸配合手套箱使用，4.3...

干涉仪是利用干涉原理测量光程之差从而测定有关物理量的光学仪器。

这款四点探针系统是一款易于使用的工具，用于快速测量材料的薄层电阻，电阻率和电导率。通过使用我们自己的源测量单元，我们...

我们Z畅销的手动液压机模型。这些手动液压机配有快速复位的滑块、快速驱动螺杆、一个可调节的台面和可移动工作头。

注射器泵（也称为注射器驱动器）通过电机驱动注射器活塞，以指定的速率移动固定体积的溶液，输送/去除特定量溶液。根据注射器...